报告主题：光响应高分子材料：从光刻胶到可逆粘合剂
报告嘉宾：吴思（教授，中国科学技术大学）
时 间：2024年11月17日（周日）上午10：30
地 点：材料学院536会议厅
报告人简介
吴思，中国科学技术大学教授，国家杰出青年科学基金获得者，曾在德国马普高分子所担任课题组组长，于2005年在中国科大获学士学位，并在中德联合培养博士生项目的资助下在德国马普高分子所和中国科大进行研究，于2010年获得博士学位。2010到2012年，在德国马普高分子所做博士后。2012年到2018年，在德国马普高分子所独立领导课题组开展光响应高分子的研究。入选了国家高层次人才计划后，于2018年回到中国科大工作。主持的基金包括5项德国的科研基金、国家自然科学基金重点国际（地区）合作研究项目和面上项目等。指导的学生有两人成为了四青人才，有多人成为了教授或副教授。研究方向为光刻胶、光响应高分子，涉及到高分子的合成、高分子光化学机理研究和潜在应用探索，设计了纳米压印光刻胶、可修复涂层、可逆粘合剂等材料。作为通讯作者发表了2篇Nat. Chem.、2篇Nat. Commun.、9篇Adv. Mater.、2篇Angew. Chem. Int. Ed.、1篇J. Am. Chem. Soc. 、5篇Adv. Funct. Mater.等文章。
报告内容简介
本报告将介绍我们课题组关于光响应高分子的一些研究。首先，我将介绍如何利用光响应的小分子基元去构筑光响应的高分子体系，以及光响应高分子的响应波长和拓扑结构的设计。然后，我将展示光响应高分子在纳米压印方面的研究结果。纳米压印是一种高精度、低成本、应用广泛的微结构加工方法。纳米压印于2023年被推向市场，用于加工14纳米线宽（相当于5纳米节点）的产品。但是，纳米压印相关的设备和材料都对中国禁售。光刻胶是纳米压印必须使用的关键材料。自主研发纳米压印光刻胶的难点在于国外的专利技术壁垒很难突破。我们研发了和传统的纳米压印光刻胶原理不同的可逆光刻胶。可逆光刻胶利用了光响应高分子的光致可逆相态转变。可逆光刻胶解决了传统的纳米压印光刻胶保质期短和压印结构缺陷难以被修复的问题。可逆光刻胶的加工精度高、适用范围广泛，能在不同材质的材料上加工高精度的纳米结构。最后，我将介绍利用光响应高分子开发的可逆粘合剂及其在柔性智能材料领域的潜在应用。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年11月14日
撰稿：张晓颖、银星 审核：王东、王雷
