报告主题：面向先进制程的光刻材料研究
报告嘉宾：朱慧娥（研究员，张江实验室）
时 间：2024年10月21日（周一）下午4点
地 点：材料学院B2-534会议厅
报告人简介
朱慧娥，张江实验室研究员，博士生导师，国家和上海市高层次人才（青年），浦东新区明珠领军人才。2014年获得日本东北大学工学博士学位，2015年-2023年任日本东北大学助理教授， 2023年至今任张江实验室研究员。在材料化学等相关学术期刊发表学术论文40余篇，主持国家级人才项目1项，张江实验室项目2项。归国前主持日本学术振兴会项目3项（国家级）以及其他竞争性项目等10余项。获得日本应用物理学会研究奖励赏、日本高分子学会高分子研究奖励赏、Rising Stars in Polymer Science（2022年）等荣誉称号。
报告内容简介
随着摩尔定律的发展，半导体工艺不断向更小的节点发展，材料、工艺、设备等关键环节都遇到了前所未有的挑战。半导体光刻胶是半导体制造前道工艺中的关键原材料，其在特定的光源作用下发生光辐照诱导的化学反应形成潜像，再通过烘烤、显影等工艺形成微细图形，为后续工艺提供关键的阻挡层。面向先进制程的光刻胶研发与原材料优化、光刻工艺迭代以及机理研究都密不可分，基于此，本报告将关于先进光刻材料的国内外研发背景、现状以及未来的发展趋势尽享介绍。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年10月18日
撰稿：张晓颖、陈亚辉 审核：王东、王雷
