报告主题：面向0.55高数值孔径光刻技术EUV光刻胶材料
报告嘉宾：罗锋（讲习教授，南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院）
时 间：2024年10月21日（周一）下午2:40
地 点：材料学院B2-534会议厅
报告人简介
罗锋，男，现任南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院双聘讲席教授，先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等。目前担任深圳综合粒子研究院科创委委员，上海光源用户委员会委员，中国感光学会光刻材料与技术专业委员会委员。研究方向包括极紫外光刻的光刻胶合成与评估、极紫外光刻（曝光/检测）。
报告内容简介
目前生产用EUV 光刻胶基于聚合物的化学放大光刻胶 (CAR)，在 32 nm 间距以下，使用0.33 NA 双重曝光，但带来工艺复杂性、成本增加和设计规则限制。0.55 NA所需光刻胶厚度20nm，这将扩大线边粗糙度和缺陷，给良率和通量带来了限制和挑战，而金属氧化物光刻胶(MOR) 是一个高NA新平台。报告系统介绍了分子团簇MOR材料的合成方法学以及其在极紫外光刻和电子束曝光条件下的评估。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年10月18日
撰稿：张晓颖、陈亚辉 审核：王东、王雷
