报告主题：高分辨光刻胶研发及其产业化
报告嘉宾：杨国强（教授，中国科学院化学研究所）
时 间：2024年10月21日（周一）下午2点
地 点：材料学院B2-534会议厅
报告人简介
杨国强，1985年北京大学获得学士学位，1991年中国科学院感光化学研究所获得博士学位。曾在日本京都大学、美国伊利诺伊大学香槟分校进行博士后研究工作。曾任中国科学院光化学重点实验室主任，分子反应动力学重点实验室主任、中国科学院化学所副所长；中国化学会秘书长，第九届全国科协委员，亚洲大洋州光化学理事会副理事长；法国上阿尔萨斯大学高级访问学者，中国科学院大学副校长（2024，1到龄离任）；获得国务院政府特殊津贴（2013年自然科学研究）。
现任中国科学院化学研究所二级研究员、中国科学院大学教授；中国化学会理事、光化学专业委员会副主任、高压化学专业委员会主任；中国感光学会光刻材料与技术专业委员会主任；中国光学学会光刻技术专业委员会副主任，亚洲大洋州光化学理事会理事；J. Photochem. Photobiol. A:Chem. 助理主编，J. Photochem. Photobiol. C 编委、《影像科学与光化学》、《化学通报》、《高压物理学报》编委。
在光功能化合物和功能材料的分子设计、材料合成、性能及其作用机理方面开展研究工作。承担并完成了包括科技部863项目、02专项项目、国家重点研发计划项目；国家自然科学基金委重点基金、国家重大科研仪器研制项目、中国科学院先导预研项目、先导C课题等重要研究任务。在我国首先开展了极端高压条件下光化学和光功能材料性质研究，发明了超快加压技术和检测设备，在亚毫秒内加压至几十万大气压，并实现加压过程的动态光谱的检测；发现并证明了三芳基硼化合物的双激发态荧光发射性能，提出了利用三芳基硼化合物作为新型多功能荧光探针的作用机理和应用，开发了系列特殊疾病早期诊断技术；在我国首先开展了基于分子玻璃单分子树脂的超高分辨光刻胶研究，研发出用于极紫外（EUV）光刻、ArF光刻(193nm)和电子束光刻的超高分辨光刻胶，正在进一步开展产业化工作，担任国科天骥（北京）新材料技术有限公司总经理。
在包括PRL、Angew. Chem. Int. Ed.、JACS、Nature Comm., ChemComm、Ana.Chem、等学术刊物上发表研究论文300余篇；申请发明专利56项，已经获得授权发明专利42项（包括日本专利一项、美国专利一项、PCT专利一项）。
报告内容简介
对国际国内光刻胶研发进展进行介绍，对在研发过程中的关键问题进行介绍和讨论。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年10月18日
撰稿：张晓颖、陈亚辉 审核：王东、王雷
