报告主题：Forge Nano：原子层沉积技术精准包覆技术助力粉体材料改性应用
报告嘉宾：庄思濛
时 间：2024年3月21日（周四）上午10:00–11:00
地 点：材料学院守璞楼534会议室
报告人简介
庄思濛先生本硕毕业于北京科技大学材料学院无机非金属材料专业，目前就职于复纳科学仪器（上海）有限公司，负责Forge Nano的原子层沉积设备技术中国市场的推广和应用。对Particle atomic layer deposition（ALD）技术有多年的应用经验，参与该技术在锂电电极材料，催化剂，金属陶瓷粉材料的涂层包覆开发以及终端应用验证。
报告内容简介
Forge Nano是全球唯一可实现规模化粉末原子层沉积方案的供应商，致力于将该技术进行商业化应用。原子层沉积技术是通过交替式通入气相反应前驱体从而在基底表面实现涂层精准生长的特殊化学气相沉积，理论厚度精度可达0.1 nm。由于其良好的涂层保形性和厚度可控型，被广泛应用于各类精密涂层制造工艺中。而颗粒类基底由于极高的比表面积和易团聚特性，如何实现批量的精准的纳米级包覆一直是行业难题。利用流化床，旋转床等批次及连续式ALD设备，可实现大批量粉末的ALD均匀包覆处理。可在锂电电极材料，燃料电池，粉末冶金，药物粉末，颜料涂料等应用中改善材料界面性能，在使用寿命，分散性，稳定性，钝化等方面有效提升粉料性能，同时提供其它功能性的增益效果。
欢迎有兴趣的师生前来参加！
材料学院
2024年3月21日
撰稿：刘光良、曹怡红 审核：王东、王雷
